顯示面板用鈦靶材，是指用于磁控濺射等物理氣相沉積（PVD）工藝，在玻璃基板或柔性基板上制備... 【詳情】

在半導體與微電子產業這個追求極致精密的領域，一切材料的性能都直接關乎最終產品的成敗... 【詳情】

鈦靶材作為物理氣相沉積（PVD）技術的核心耗材，是制備高性能薄膜的“源頭材料”。在光伏能... 【詳情】

新能源用鈦靶材是用于薄膜沉積的高純度鈦或鈦合金材料（純度≥99.99%?），遵循半導體級制造... 【詳情】

光學級鈦靶材是高端鍍膜的核心材料，其性能直接影響光學系統的能量損耗（每0.1%雜質增加約... 【詳情】

鈦管靶憑借其高材料利用率和均勻鍍膜特性，在顯示面板（如G10.5代線需Φ450×2500mm靶管）和... 【詳情】

鈦靶材因其優異的綜合性能（性價比、成膜質量、工藝適應性），占據真空鍍膜靶材市場約35%的... 【詳情】

鈦靶管憑借高材料利用率與鍍膜均勻性，在顯示面板（如8K OLED）和光伏領域占據主導地位。相... 【詳情】

圓柱鈦靶材憑借其高致密性與工藝適應性，在半導體（如5 nm節點TiN阻擋層）和超精密光學領域... 【詳情】

1、高純鈦靶裝飾用純鈦靶是一種用于物理氣相沉積（PVD）工藝的高純度鈦材料，通常以塊狀或板... 【詳情】

平面顯示用鈦靶是高端顯示面板制造的核心材料，其超純、高密度和微觀均勻性要求遠高于裝... 【詳情】

1、定義純鈦靶是以鈦金屬為主要成分，純度通常在 99.95%（3N5級）以上 的濺射靶材，用于物理氣... 【詳情】

鍍膜用鈦管靶憑借其高利用率、優異膜厚均勻性和旋轉濺射適應性，成為大面積連續鍍膜的核... 【詳情】

工業涂層用鈦圓柱靶憑借其高純度、優異熱管理能力和適配多種復合涂層的靈活性，成為機械... 【詳情】

1、定義TA2純鈦靶是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA2（工業純鈦） 為基礎材料，通過特殊... 【詳情】

鉻靶材在磁記錄與儲能領域扮演著至關重要的角色，是實現高密度數據存儲和高效電化學能量... 【詳情】

鉻靶材是裝飾與工具功能性鍍膜領域的核心基礎材料。通過物理氣相沉積（PVD）技術，鉻或其化... 【詳情】

表面涂層與防護用鉻靶材是以高純度金屬鉻或鉻合金（如鐵鉻合金）為材質?，通過真空鍍膜技術... 【詳情】

名稱：鉻多弧靶牌號：Gr用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍... 【詳情】

產品名稱：鉻旋轉靶鉻管靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( kg/ 塊）用途：鉻... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( kg... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：高純鉻靶,鉻靶材,鉻靶塊產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

牌號：鉻靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：高純鉻靶,鉻靶材,鉻靶塊產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻平面靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/塊）用途：鉻靶用于... 【詳情】

光學器件用鋯靶材，主要是指用于物理氣相沉積（PVD），特別是磁控濺射工藝，以在高性能光學元件... 【詳情】

鋯靶材，作為一種高性能的濺射靶材，正在半導體與微電子領域展現出日益重要的價值。憑借鋯... 【詳情】

集成電路晶體管制造用鋯靶是以高純度金屬鋯（純度≥99.9%）或鋯合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）為... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

產品名稱：鋯靶、鋯靶塊牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

產品名稱：鋯靶牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺... 【詳情】

產品名稱：鋯靶管、鋯旋轉靶廠家：凱澤金屬材 質：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱：鋯靶牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材 、鋯平面靶純度：99.6%類型：平面靶材標準：國標、美標、德標均可生產狀態：冷... 【詳情】

產品名稱：鋯靶管、鋯旋轉靶廠家：凱澤金屬材 質：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

鎳靶材是電子與半導體工業中不可或缺的關鍵基礎材料。在物理氣相沉積（PVD）工藝中，鎳靶作... 【詳情】

磁記錄用鎳靶材，作為物理氣相沉積（PVD）技術的核心濺射源材料，專用于在磁盤、磁帶或傳感器... 【詳情】

半導體制造用鎳靶材是以高純度鎳（≥99.95%）或鎳基合金（如鎳鎢、鎳鈷）為材質?，通過物理氣相... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱：鎳靶（鎳多弧靶）產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (... 【詳情】

產品名稱：鎳靶塊牌號：N6, N4用途：鎳靶塊主要用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳靶管牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號： N6、 N4用途：用于半導體分離器件、平... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳銅靶材，鎳銅多弧靶，鎳銅旋轉靶，鎳銅平面靶牌號：NiCu用途：用于半導體分離器件、平... 【詳情】

鈦鋁靶材是以鈦（Ti）和鋁（Al）為主要成分，通過特定工藝制備而成的合金濺射靶材，是物理氣相沉積... 【詳情】

裝飾與功能鍍膜用鈦鋁靶是以鋁鈦合金（原子比50-70:30-50）為材質?、純度≥99.8%?的濺射... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規格及參數如下：1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮，氣孔，裂... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規格參數純度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規格及參數如下：1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮，氣孔，裂... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規格參數純度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

銅靶材作為物理氣相沉積（PVD）工藝的核心耗材，是半導體芯片制造中金屬互連技術的基石。憑... 【詳情】

電路板與芯片封裝用銅靶是以高純度銅（≥99.99%）為材質?，具備高導電性（低電阻）和優異熱導率... 【詳情】

產品名稱：銅靶材、銅多弧靶, 銅平面靶，銅旋轉靶牌號：Cu用途：用于半導體分離器件、平面顯示... 【詳情】

名稱：銅靶材、銅多弧靶, 銅平面靶，銅旋轉靶牌號：Cu用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、... 【詳情】

工業防護耐磨鍍層用鐵靶是以高純度鐵金屬為材質?，通過濺射工藝在基材表面形成高硬度、... 【詳情】

一、光伏新能源用不銹鋼靶材的定義與核心特性分類詳細描述定義以不銹鋼（Fe-Cr-Ni系合金... 【詳情】